Технологические процессы в микроэлектронике
Каменская А.В., Дикарева Р.П.
В пособии описываются технологические процессы получения и очистки кристаллов полупроводников, методы получения окисных слоев кремния. Включено также описание лабораторных работ «Кристаллизационные методы очистки полупроводников» и «Анодное окисление кремния». Учебное пособие составлено на основании Государственного образовательного стандарта высшего профессионального образования.
Categorías:
Año:
2005
Editorial:
НГТУ
Idioma:
russian
Archivo:
RTF , 17.98 MB
IPFS:
,
russian, 2005